重大突破：中国开始批量生产自主研发的DUV光刻机

（德国之声中文网）美国媒体《信息报》（The Information ）本周一（7月27日）援引两名不具名知情人士称，一家总部位于上海的企业已启动浸没式深紫外（DUV）光刻机的小规模批量生产，预计今年内向中芯国际、华虹半导体及长鑫存储等主要芯片制造商交付首批约5台设备，2027年产量计划提升至约20台。这款中国产光刻机主打28纳米芯片生产，还可满足7纳米级别芯片的制造需求。

报道未披露这家获得国家支持的制造商的具体名称，但称该公司整合了中国多家企业的研发团队，其中包括政府支持的芯片设备初创企业上海宇量升科技有限公司。《金融时报》去年9月曾报道，中芯国际测试的国产浸没式DUV光刻机来自上海企业宇量升。

路透社本周二报道称，该公司名为上海爱晟纳电子科技集团，是一家国营企业，2023年8月在上海成立，注册资本就高达70亿元人民币，主要股东为上海电气控股集团及上海国际信托旗下子公司等国有资本。

可能挑战阿斯麦在中国市场的地位

浸没式DUV光刻机可将电路图案精准转印至硅晶圆上，是目前中国芯片制造商目前可以使用的最先进的光刻设备。2019年，荷兰政府没有续发阿斯麦（ASML）向中国出口极紫外（EUV）所需光刻机的许可证。此后，阿斯麦未再向中国客户交付过极紫外（EUV）光刻机。从2023年起，中国客户获取最先进浸没式深紫外光刻机也受到越来越严格的限制，但较旧或较低端的深紫外光刻机并未全部被禁。

中国企业的这项突破最终可能会挑战阿斯麦（ASML）在中国的市场地位，部分替代其主导的进口设备。随着美国考虑对外国光刻设备出口和在华维修实施更严格的限制，中国的这项技术有望为中国芯片制造商提供关键设备的替代来源。

报道发布后，阿斯麦（ASML）股价下跌超过8个百分点，跌至6月初以来的最低水平。欧美其他光刻机生产商的股价也应声下跌。

不过，《信息报》（The Information ）的报道指出，上海公司开始生产的浸没式深紫外光刻机在性能和可靠性方面仍有不足，在量产前还需要进一步测试，阿斯麦（ASML）公司依然存在优势。

报道还称，中国也在研发国产极紫外光刻机（EUV），但目前仍处于原型阶段。

（路透社等）

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